[实用新型]一种掩膜板有效
申请号: | 201720318801.1 | 申请日: | 2017-03-29 |
公开(公告)号: | CN206757294U | 公开(公告)日: | 2017-12-15 |
发明(设计)人: | 罗丽平;刘会双;张俊东;张昭强;张小祥;刘明悬;姚化礼;贾红冉;孙增标;李伟 | 申请(专利权)人: | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 刘悦晗,陈源 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供的掩膜板,在基底设置用于遮挡第一方向的光并使第二方向的光通过的第一结构,和用于遮挡第二方向的光并使第一方向的光通过的第二结构,其中,第一方向为照射至基底的第一表面的光线的方向,第二方向为照射至基底的第二表面的光线的方向,第一表面和第二表面为基底相对的两个表面。当光线从第一方向照射时,可以形成第一结构所对应的图形,当光线从第二方向照射时,可以形成第二结构所对应的图形,第一结构所对应的图形和第二结构所对应的图形可以分别对应不同掩膜工艺,从而一张掩膜板可以对应两次不同的掩膜工艺,可以减少一半掩膜板的使用数量,极大的节省了液晶显示装置的开发成本和生产成本,降低了掩膜板的管理难度。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜板 | ||
【主权项】:
一种掩膜板,包括基底,其特征在于,所述基底包括用于遮挡第一方向的光并使第二方向的光通过的第一结构,和用于遮挡第二方向的光并使第一方向的光通过的第二结构;所述第一方向为照射至所述基底的第一表面的光线的方向,所述第二方向为照射至所述基底的第二表面的光线的方向,所述第一表面和第二表面为所述基底相对的两个表面;所述第一结构包括第一反射层,所述第一反射层用于反射所述第一方向的光;所述第二结构包括第二反射层,所述第二反射层用于反射所述第二方向的光。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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