[实用新型]一种晶体加工用水循环装置

摘要

本实用新型涉及晶体处理设备领域，尤其是一种晶体加工用水循环装置。它包括一硅片脱胶池，在硅片脱胶池的左侧下部设有一通过管道与硅片擦洗池相连通的脱胶排水口，在硅片擦洗池的右侧底部设有通过管道与硅片清洗池上部相连通的擦片排水口，所述硅片清洗池的空腔自左向右依次由隔板分割为互不连通的前清洗池、中部清洗池与后清洗池，前清洗池通过管道与污水池相连通设置，硅片脱胶池、硅片擦洗池以及硅片清洗池的前清洗池、中部清洗池、后清洗池分别通过供水管与一供水池相连通。它结构简单，设计合理，在进行各步工序处理时所需水量较少，且各加工工序之间所用的水源可进行循环利用，更有效地满足人们的需求，解决了现有技术中存在的问题。

主权项

一种晶体加工用水循环装置，其特征在于：包括一硅片脱胶池，在硅片脱胶池的左侧下部设有一通过管道与硅片擦洗池左侧下部相连通的脱胶排水口，在硅片脱胶池与硅片擦洗池之间的管道上依次设有一第一过滤器、第一泵体，在硅片擦洗池的右侧底部设有通过管道与硅片清洗池上部相连通的擦片排水口，所述硅片清洗池的空腔自左向右依次由隔板分割为互不连通的前清洗池、中部清洗池与后清洗池，前清洗池通过管道与污水池上部相连通设置，中部清洗池通过管道与硅片脱胶池相连通设置，在中部清洗池与硅片脱胶池相连通设置的管道上依次设有一第二过滤器、第二泵体，后清洗池通过回流管与第二过滤器、第二泵体之间的管道相连通，在第二过滤器的过滤网的右侧设有一通过管道与污水池相连通设置的排渣管，硅片脱胶池、硅片擦洗池以及硅片清洗池的前清洗池、中部清洗池、后清洗池分别通过供水管与一供水池相连通设置，在供水池的一侧设有一与水源连通的供水泵，在各供水管上分别设有一阀门，在硅片擦洗池与硅片擦洗池相连通的管道上依次设有一第三过滤器、第三泵体；第一泵体、第二泵体、第三泵体、供水泵分别通过导线与外部电源相连通设置。