[发明专利]一种兼具稳定和抗污染的单价选择性阴离子交换膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种简单有效的兼具稳定和抗污染的单价选择性阴离子交换膜的制备方法：用磺酸化氧化石墨烯对阴离子交换膜进行改性，再将改性膜进行还原，最后将多巴胺溶液静电沉积到膜表面，由此便可以得到一张兼具稳定和抗污染的单价选择性阴离子交换膜。本发明通过聚多巴胺的粘附性和亲水性及磺酸化还原氧化石墨烯所构筑的单价阴离子通道使阴离子交换膜的稳定性，抗污染性能和单价选择性得到提高。

主权项

1.一种兼具稳定和抗污染的单价选择性阴离子交换膜的制备，其特征在于：所述的制备方法按照如下步骤进行：(1)将对胺基苯磺酸与氧化石墨烯混合，在20～100℃下反应3～8h，得到磺酸化氧化石墨烯产物；所述的对胺基苯磺酸与氧化石墨烯的质量比为1：0.1～10；(2)将步骤(1)所得磺酸化氧化石墨烯产物分散于去离子水中，得到分散液；所述的去离子水的加入量以所述的磺酸化氧化石墨烯产物的质量计为50～3000ml/g；(3)将基膜阴离子交换膜安装在静电沉积装置上的通孔(5)处，所述的静电沉积装置包括第一通气室(1)、料液室(2)、第二通气室(3)、电动搅拌器(4)，所述的第一通气室、料液室和第二通气室固接形成密封的三室结构，所述的料液室夹在所述的第一通气室和所述的第二通气室之间；所述的通孔(5)为所述的料液室的两侧面设有分别与第一通气室和所述的第二通气室连通的基膜安装孔，所述的基膜为隔膜安装在所述的通孔处，所述的第一通气室、第二通气室各自通过所述的基膜与料液室的内腔相连，将所述的分散液加入料液室后搅拌反应10‑50h，反应同时始终保持通气室与空气连通，反应结束所得带磺酸化氧化石墨烯层的阴离子交换膜，经还原剂还原得到改性阴离子交换膜；所述的还原剂为水合肼、氨水、氢碘酸或硼氢化钠；(4)将步骤(3)所得改性阴离子交换膜安装在所述的静电沉积装置上的通孔处，向所述的料液室中加入多巴胺的Tris‑HCl溶液，搅拌反应1～24h，得目标产物单价选择性阴离子交换膜。