[发明专利]一种大气等离子喷涂技术制备具有择优取向羟基磷灰石涂层的方法在审

专利信息
申请号: 201711486239.4 申请日: 2017-12-29
公开(公告)号: CN108118282A 公开(公告)日: 2018-06-05
发明(设计)人: 贺定勇;刘晓梅;周正;王国红;王曾洁;吴旭;谈震 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: C23C4/134 分类号: C23C4/134;C23C4/04;A61L27/32;A61L27/50
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 张立改
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种大气等离子喷涂技术制备具有择优取向羟基磷灰石涂层的方法,属于生物医用材料人工种植体相关领域。以烘干后的粒径为38‑45μm的纳米团聚球形羟基磷灰石粉末为喷涂材料,通过该方法提供的大气等离子喷涂工艺参数,可制备出具有较强择优取向的羟基磷灰石涂层,涂层中存在大量的垂直于涂层表面的柱状晶。采用该方法制备出具有较强择优取向的羟基磷灰石涂层的过程简单,制备出的涂层的结晶度为85‑95%,并且涂层与基体之间的结合良好。
搜索关键词: 羟基磷灰石涂层 制备 择优取向 大气等离子喷涂 球形羟基磷灰石 生物医用材料 人工种植体 喷涂材料 涂层表面 结晶度 柱状晶 烘干 粒径 团聚 垂直
【主权项】:
一种大气等离子喷涂技术制备具有择优取向羟基磷灰石涂层的方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤1,选取粒径38‑45μm高纯纳米团聚羟基磷灰石粉末作为喷涂材料;步骤2,对金属基体表面进行预处理去除表面氧化膜以及油污,然后对金属基体进行喷砂处理;聚羟基磷灰石粉末的纯度大于98%。步骤3,将烘干后的步骤1所述的粉料采用大气等离子喷涂设备喷涂于步骤2经预处理和喷砂后的基体之上,喷涂工艺参数为:喷涂电流330‑350A,喷涂电压50V,喷涂距离60mm,氩气流量23.5‑25SLPM,枪摆速度150m/s,步进4mm,送粉率6‑7g/min,送粉载气流量10‑12SLPM。
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