[发明专利]可饱和吸收体制备方法、可饱和吸收体及光纤激光器有效
申请号: | 201711462693.6 | 申请日: | 2017-12-28 |
公开(公告)号: | CN109980495B | 公开(公告)日: | 2020-12-08 |
发明(设计)人: | 曾远康;龙慧;邓俊贤;曾龙辉 | 申请(专利权)人: | 香港理工大学 |
主分类号: | H01S3/11 | 分类号: | H01S3/11;H01S3/067 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 李昕巍;章侃铱 |
地址: | 中国香港九龙红磡理*** | 国省代码: | 香港;81 |
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摘要: | 本申请公开一种可饱和吸收体制备方法、可饱和吸收体及光纤激光器。其中,可饱和吸收体制备方法包括:将块体的三硒化二铟放置于有机溶剂中;将含有三硒化二铟的有机溶剂放置于超声机中以获取悬浮液;将所述悬浮液进行离心处理,提取离心处理后的上层液体;将所述上层液体滴在石英片上烘干,获取三硒化二铟二维纳米石英片;以及将所述三硒化二铟二维纳米石英片进行抛光以获取可饱和吸收体。本申请公开的可饱和吸收体制备方法能够采用廉价的方式制备可饱和吸收体,并且,适合进行大规模制备可饱和吸收体。 | ||
搜索关键词: | 饱和 吸收体 制备 方法 光纤 激光器 | ||
【主权项】:
1.一种可饱和吸收体制备方法,其特征在于,包括:将块体的三硒化二铟放置于有机溶剂中;将含有三硒化二铟的有机溶剂放置于超声机中以获取悬浮液;将所述悬浮液进行离心处理,提取离心处理后的上层液体;将所述上层液体滴在石英片上烘干,获取三硒化二铟二维纳米石英片;以及将所述三硒化二铟二维纳米石英片进行抛光以获取可饱和吸收体。
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