[发明专利]光场成像模组在审
| 申请号： | 201711461155.5 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108174068A | 公开（公告）日： | 2018-06-15 |
| 发明（设计）人： | 王兆民;许星 | 申请（专利权）人： | 深圳奥比中光科技有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/225 | 分类号： | H04N5/225;H04N5/374;H04N5/372 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光场成像模组，包括：图像传感器，包括二维排列的感光单元；第一基板以及形成在所述第一基板上的微透镜阵列，所述微透镜阵列包括多个微透镜单元，每个所述微透镜单元对应所述图像传感器的多个感光单元；第二基板以及形成在所述第二基板上的透镜，所述透镜用于接收光线并经所述微透镜阵列入射到所述图像传感器上。通过合理设置各个光学元件的位置及连接关系并采用WLO工艺减小光场成像模组的体积，更进一步的，结合反射光路设计减小光场成像模组的体积。 1 | ||
| 搜索关键词： | 光场成像 模组 图像传感器 透镜 微透镜单元 微透镜阵列 第二基板 第一基板 感光单元 减小 二维排列 反射光路 光学元件 合理设置 连接关系 微透镜 | ||
【主权项】：
1.一种光场成像模组，其特征在于,包括：
图像传感器，包括二维排列的感光单元；
第一基板以及形成在所述第一基板上的微透镜阵列，所述微透镜阵列包括多个微透镜单元，每个所述微透镜单元对应所述图像传感器的多个感光单元；
第二基板以及形成在所述第二基板上的透镜，所述透镜用于接收光线并经所述微透镜阵列入射到所述图像传感器上。
2.如权利要求1所述的光场成像模组，其特征在于，还包括第一反射基板，所述第一反射基板上设有第一反射面，所述第一反射面用于接收并反射由透镜透射过的光线。3.如权利要求2所述的光场成像模组，其特征在于，还包括第二反射基板，所述第二反射基板上设有第二反射面，所述第二反射面用于接收并反射由第一反射面反射出的光线。4.如权利要求1所述的光场成像模组，其特征在于，还包括间隙块，用于固定所述图像传感器、所述第一基板以及所述第二基板。5.如权利要求2或3所述的光场成像模组，其特征在于，还包括间隙块，用于固定所述图像传感器与所述第一基板。6.如权利要求1所述的光场成像模组，其特征在于，所述第一基板和/或第二基板为透明基板；所述第一基板和/或第二基板是玻璃或硅材料。7.如权利要求1所述的光场成像模组，其特征在于，所述微透镜阵列是晶圆级微透镜阵列。8.如权利要求1所述光场成像模组，其特征在于，所述微透镜阵列形成在所述第一基板的至少一个表面上。9.如权利要求1所述的光场成像模组，其特征在于，所述透镜形成在所述第二基板的至少一个表面上。10.如权利要求1所述的光场成像模组，其特征在于，所述图像传感器包括CCD或CMOS。
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