[发明专利]基于光片结构光的显微层析超分辨率成像方法及系统有效

专利信息
申请号: 201711447792.7 申请日: 2017-12-27
公开(公告)号: CN108227233B 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 戴琼海;边丽蘅;陈峰 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G02B27/58 分类号: G02B27/58;G02B21/36
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 张润
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于光片结构光的显微层析超分辨率成像方法及系统,其中,方法包括:对光照端的入射光进行空间调制,以生成光片从侧面照明样本;将光照端的光片调制成多个不同频率且不同方向的样式图案,并相应地在探测端拍摄多张图像;根据多张图像通过结构光超分辨率方法提高图像分辨率,以得到超分辨率显微层析成像图像。该方法可以有效提高成像分辨率,消除背景噪声。
搜索关键词: 基于 结构 显微 层析 分辨率 成像 方法 系统
【主权项】:
1.一种基于光片结构光的显微层析超分辨率成像方法,其特征在于,包括以下步骤:对光照端的入射光进行空间调制,以生成光片从侧面照明样本;将所述光照端的光片调制成多个不同频率且不同方向的样式图案,并相应地在探测端拍摄多张图像;以及根据所述多张图像通过结构光超分辨率方法提高图像分辨率,以得到超分辨率显微层析成像图像。
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