[发明专利]一种在深度共熔溶剂中低温电解铝的方法有效
| 申请号： | 201711447337.7 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN108166021B | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 牟天成;蒋静云;赵新辉;陈文君;王晋芳 | 申请（专利权）人： | 中国人民大学 |
| 主分类号： | C25C3/18 | 分类号： | C25C3/18;C25C3/02;C25B1/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 关畅 |
| 地址： | 100872 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种在深度共熔溶剂中低温电解铝的方法。该方法包括：将所述氢键给体和氢键受体按照配比混匀，得到所述深度共熔溶剂后，将金属氧化物溶解于深度共熔溶剂中，以该体系为电解液，进行电解。本发明的优点在于深度共熔溶剂作为电解质，它除了具有离子液体的共性以外，还具有合成简单、廉价和纯度高等优点，是电化学沉积铝的理想溶剂；并且实现了室温下电解铝，得到了光亮、均匀和致密的铝沉积层，改善了铝沉积层的附着能力，避免了枝晶铝的产生，解决了目前沉积层容易脱落的问题；电解过程中，无气体产生，无环境污染。 | ||
| 搜索关键词： | 溶剂 共熔 电解铝 铝沉积层 中低温 致密 电解质 电化学沉积 金属氧化物 电解过程 附着能力 离子液体 理想溶剂 气体产生 氢键给体 沉积层 电解液 混匀 配比 氢键 枝晶 电解 溶解 合成 | ||
【主权项】：
1.深度共熔溶剂在电解金属中的应用；所述深度共熔溶剂由氢键给体和氢键受体组成；所述金属为铝；所述氢键给体选自羧酸类化合物、胆碱类化合物和酰胺类化合物中的至少一种；所述氢键受体为聚乙二醇类氢键受体。
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