[发明专利]成像设备和鼓单元有效
| 申请号： | 201711347190.4 | 申请日： | 2017-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN108227433B | 公开（公告）日： | 2022-05-24 |
| 发明（设计）人： | 横井淳一;塚田隆正 | 申请（专利权）人： | 兄弟工业株式会社 |
| 主分类号： | G03G15/043 | 分类号： | G03G15/043;G03G21/16 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 黄刚;车文 |
| 地址： | 日本爱知*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供成像设备和鼓单元，成像设备具有感光鼓组件、曝光头和轴承。感光鼓组件包括感光鼓和设置在感光鼓的在感光鼓的轴线的轴向方向上的一端处的凸缘。凸缘接触感光鼓的内表面。曝光头包括：沿着感光鼓的轴向方向对准的多个光发射器；将来自光发射器的光聚焦在感光鼓上的透镜阵列；和支撑光发射器和透镜阵列的头框架。轴承具有第一接触面，用于接触曝光头，以限定在透镜阵列和感光鼓之间沿着光的光轴的方向的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 设备 单元 | ||
【主权项】：
1.一种成像设备，包括：感光鼓组件，所述感光鼓组件包括：感光鼓；和凸缘，所述凸缘被设置在所述感光鼓的在所述感光鼓的轴线的轴向方向上的一端处，所述凸缘接触所述感光鼓的内表面；曝光头，所述曝光头包括：多个光发射器，所述多个光发射器沿着所述轴向方向对准；透镜阵列，所述透镜阵列将来自所述光发射器的光聚焦在所述感光鼓上；和头框架，所述头框架支撑所述光发射器和所述透镜阵列；和轴承，所述轴承直接可旋转地支撑所述凸缘，所述轴承包括第一接触面，所述第一接触面与所述曝光头接触，以限定在所述透镜阵列和所述感光鼓之间沿着所述光的光轴的方向的距离。
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