[发明专利]激光投影装置有效
| 申请号： | 201711294423.9 | 申请日： | 2017-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN107861253B | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 罗超 | 申请（专利权）人： | 青岛海信激光显示股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;G03B21/20 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 江崇玉 |
| 地址： | 266500 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种激光投影装置，属于激光投影显示技术领域。所述装置包括：光源和光机；光机包括：沿远离光源的方向依次设置的菲涅尔透镜、单面微透镜阵列和积分透镜，菲涅尔透镜和积分透镜的主光轴垂直于单面微透镜阵列的排布面；菲涅尔透镜用于对光源发出的光束进行准直处理；单面微透镜阵列用于对准直处理后的光束进行匀化处理；积分透镜用于对匀化处理后的光束进行聚焦处理。本发明解决了相关技术中光束整形装置导致的光衰率较高，光束利用率较低的问题。本发明用于激光投影。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 投影 装置 | ||
【主权项】：
一种激光投影装置，其特征在于，所述装置包括：光源和光机；所述光机包括：沿远离所述光源的方向依次设置的菲涅尔透镜、单面微透镜阵列和积分透镜，所述菲涅尔透镜和所述积分透镜的主光轴垂直于所述单面微透镜阵列的排布面；所述菲涅尔透镜用于对所述光源发出的光束进行准直处理；所述单面微透镜阵列用于对准直处理后的光束进行匀化处理；所述积分透镜用于对匀化处理后的光束进行聚焦处理。
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