[发明专利]一种变栅距凹面光栅及其制作工艺在审
| 申请号： | 201711287721.5 | 申请日： | 2017-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN108152873A | 公开（公告）日： | 2018-06-12 |
| 发明（设计）人： | 梁娟;焦鑫;杨莽;吴克墀 | 申请（专利权）人： | 深圳力合防伪技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 石伍军;张鹏 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种变栅距凹面光栅制作工艺，包括：调配复合树脂步骤：采用顺排碳纳米管、聚氨酯丙烯酸树脂、活性单体、引发剂混合，得到复合树脂；3D打印模型设计步骤：通过计算机设计具有空洞微结构的光栅模型；所述空洞微结构的尺寸为10‑20nm；所述光栅的特征线宽为0.4‑0.6μm；3D打印步骤：利用LED‑UV分辨率1080P的DLP‑3D打印机打印得变栅距凹面光栅。该制作工艺通过在3D数字建模过程中设计人造微结构及其采取随机分布排列方式，增加对不同方向入射电磁波的电磁响应，使得该变栅距功能的凹面光栅在较宽的频段内具有较高的折射率。 | ||
| 搜索关键词： | 凹面光栅 变栅距 制作工艺 打印 复合树脂 微结构 空洞 聚氨酯丙烯酸树脂 计算机设计 人造微结构 光栅 电磁响应 光栅模型 活性单体 模型设计 排列方式 数字建模 随机分布 碳纳米管 特征线宽 电磁波 引发剂 折射率 分辨率 频段 入射 顺排 调配 | ||
【主权项】：
一种变栅距凹面光栅制作工艺，其特征在于，包括：调配复合树脂步骤：采用顺排碳纳米管、聚氨酯丙烯酸树脂、活性单体、引发剂混合，得到复合树脂；3D打印模型设计步骤：通过计算机设计具有空洞微结构的光栅模型；所述空洞微结构的尺寸为10‑20nm；所述光栅的特征线宽为0.4‑0.6μm；3D打印步骤：利用LED‑UV分辨率1080P的DLP‑3D打印机打印得变栅距凹面光栅。
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