[发明专利]基于EPI的光场拼接装置及方法有效
申请号: | 201711263793.6 | 申请日: | 2017-12-05 |
公开(公告)号: | CN108133469B | 公开(公告)日: | 2021-11-02 |
发明(设计)人: | 王庆;郭满堂;周果清 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | G06T5/50 | 分类号: | G06T5/50;G06T7/33;G06T7/557;G06F17/15;G03B37/02 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人: | 顾潮琪 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明提供了一种基于EPI的光场拼接装置及方法,将光场相机固定在电控平移台的台面上,且光场相机的镜头光轴与电控平移台导轨方向垂直;将电控平移台固定在光学平台的底板上,使电控平移台的导轨和光学平台底板平面平行或垂直;在计算机终端对运动控制器发出指令,控制光场相机在电控平移台导轨上平移;相机在平移运动的过程中采集光场,相邻光场经过注册和插值处理,渲染出比360°视场范围更大的光场。 | ||
搜索关键词: | 基于 epi 拼接 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种基于EPI的光场拼接装置,包括光场相机、光学平台、电控平移台、运动控制器和计算机,其特征在于:所述的光场相机固定在电控平移台上,且光场相机的镜头光轴与电控平移台的导轨方向垂直;所述的电控平移台安装在光学平台上,电控平移台的导轨和光学平台平行或垂直;所述的计算机通过运动控制器控制光场相机在电控平移台导轨上平移。
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