[发明专利]阵面阵架结构有效
| 申请号： | 201711219559.3 | 申请日： | 2017-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN108011176B | 公开（公告）日： | 2020-07-14 |
| 发明（设计）人： | 俞刘建;王志成;韦宇祥;刘广;马跃华;武秋生;张凤岗;惠轶;贾耀兴;庄国平 | 申请（专利权）人： | 上海机电工程研究所 |
| 主分类号： | H01Q1/12 | 分类号： | H01Q1/12;H01Q21/00 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 庄文莉 |
| 地址： | 201108 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种新型阵面阵架结构，其包括墙体、暗室、加强架、阵面阵架、转台，暗室、加强架、阵面阵架、转台都位于墙体内部，加强架、阵面阵架、转台都位于暗室内部，阵面阵架固定在加强架上，转台位于加强架一侧，本发明阵面阵架空间利用率高，曲率半径和表面积最大化；阵面阵架为铝制骨架蒙皮结构，有利于减轻质量；阵面阵架自重小，有利于减小变形和提高刚度。 | ||
| 搜索关键词： | 阵面阵架 结构 | ||
【主权项】：
1.一种新型阵面阵架结构，其特征在于，包括墙体、暗室、加强架、阵面阵架、转台，暗室、加强架、阵面阵架、转台都位于墙体内部，加强架、阵面阵架、转台都位于暗室内部，阵面阵架固定在加强架上，转台位于加强架一侧。
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