[发明专利]一种西瓜的无土穴盘育苗方法

摘要

本发明公开了一种西瓜的无土穴盘育苗方法，西瓜种子经晒种、浸种处理，降低种子表面物质的抑制发芽作用，之后使用药剂浸种结合蛭石引发处理，采用赤霉素浸泡后，进行蛭石引发催芽处理，显著提高种子发芽率；穴盘育苗基质中含有满足培育幼苗要求的养分含量，提供西瓜幼苗生长所需的营养物质，另外添加适量的氧化铁纳米粒子，促进西瓜根系的伸长，有效促进西瓜幼苗的生长；采用本发明方法进行西瓜的无土育苗，种子出苗的整齐度较好，而且出现崎形苗的概率降低，还可有效促进幼苗的生长，缩短整个西瓜的育苗期，达到提前上市、丰产增收的目的。

主权项

一种西瓜的无土穴盘育苗方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）晒种：播种前将西瓜种在阳光下晒种3‑5h，之后放入清水中，除去浮在水面的种子，留下沉入水底的种子，备用；（2）浸种：先将种子置于50‑60℃的热水中揉搓数次，洗掉种子表面的杂物，同时减少病菌，然后再进行浸种；揉搓至水温降至30‑35℃浸种 6‑10h ，将浸过的种子沥干水分后在室内摊晾10‑20 min，使种子表面稍干，以利于种子透气；（3）引发催芽处理：先使用0.3‑0.5mg/L赤霉素溶液浸种45‑70min，然后用清水清洗后，使用干纱布将种子表面水分吸干，放入装有蛭石的容器内，加入适量清水，用保鲜膜封住容器口，膜上均匀扎小孔以便透气，置于24‑30℃恒温箱内处理24‑38h；（4）将醋糟、珍珠岩、蛭石按照4:2‑3:3的体积比进行混配，作为育苗基质，称取肥料溶解于水中，喷入育苗基质后充分搅拌，再添加少量的氧化铁纳米粒子搅拌均匀后，装入穴盘中；（5）待种子芽长到0.3‑0.5cm时播种于育苗穴盘内，每穴1粒，种子平放，芽尖向上，并用800倍甲基托布津液浇透育苗盘，覆盖膜料，摆放于玻璃日光温室内培养，根据情况可每2天揭膜一次进行补水，保持基质湿润，有一半种子出苗后揭掉膜料，至完成育苗。