[发明专利]基板处理装置

摘要

本发明提供能抑制在基板面内和面间供给气体浓度分布的偏差的基板处理装置。具有：处理容器，其设为能收纳并处理多个基板；多个气体喷嘴，其设于处理容器内沿处理容器周向排列沿长度方向延伸，向处理容器内供给气体；及排气部，其设于处理容器内的与多个气体喷嘴相对位置，对处理容器内气体排气，气体喷嘴含：喷嘴基部，其沿处理容器周向排列；及气体供给部，其与喷嘴基部连接，向处理容器内供给气体，多个气体喷嘴含：第1气体喷嘴，其含位于处理容器内最下方的第1气体供给部；及第2气体喷嘴，其含位于比第1气体供给部靠上方位置的第2气体供给部，以第1气体供给部和第2气体供给部沿处理容器长度方向置于一直线上的方式形成第2气体喷嘴。

主权项

1.一种基板处理装置，其具有：处理容器，其设置为能够收纳多个基板，并对该多个基板进行处理；多个气体喷嘴，其设置于所述处理容器内，该多个气体喷嘴沿着所述处理容器的周向排列并沿着所述处理容器的长度方向延伸，并向所述处理容器内供给气体；以及排气部，其设置于所述处理容器内的与所述多个气体喷嘴相对的位置，该排气部对所述处理容器内的气体进行排气，所述多个气体喷嘴具有：喷嘴基部，其沿着所述处理容器的周向排列；以及气体供给部，其与所述喷嘴基部连接，并向所述处理容器内供给气体，所述多个气体喷嘴具有：第1气体喷嘴，其具有位于所述处理容器内的最下方的第1气体供给部；以及第2气体喷嘴，其具有位于比所述第1气体供给部靠上方的位置的第2气体供给部，以所述第1气体供给部和所述第2气体供给部沿着所述处理容器的长度方向配置于一直线上的方式形成所述第2气体喷嘴。