[发明专利]X-射线成像的自动曝光控制方法、存储介质和医疗设备有效
| 申请号： | 201711079364.3 | 申请日： | 2017-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN109745060B | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 赫伟 | 申请（专利权）人： | 上海西门子医疗器械有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201318 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种X‑射线成像的自动曝光控制方法、存储介质和医疗设备。根据一实施方式，X‑射线成像的自动曝光控制方法包括：以设定的预曝光剂量Mp对一待测对象进行预曝光，获得低剂量曝光图像；在所述低剂量曝光图像上确定待测对象轮廓；在所述低剂量曝光图像上基于选定像素位置，在所述待测对象轮廓范围内界定感兴趣区域ROI；计算所述感兴趣区域ROI的平均像素值G |
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| 搜索关键词： | 射线 成像 自动 曝光 控制 方法 存储 介质 医疗 设备 | ||
【主权项】：
1.一种X‑射线成像的自动曝光控制方法，包括：以设定的预曝光剂量Mp对一待测对象进行预曝光，获得低剂量曝光图像；在所述低剂量曝光图像上确定待测对象轮廓；在所述低剂量曝光图像上基于选定像素位置，在所述待测对象轮廓范围内界定感兴趣区域ROI；计算所述感兴趣区域ROI的平均像素值GROI；以及根据所述感兴趣区域ROI的平均像素值GROI计算主曝光剂量Mr。
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