[发明专利]一种喷头、控制液滴扩散的系统及方法在审
| 申请号： | 201711064554.8 | 申请日： | 2017-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN107632462A | 公开（公告）日： | 2018-01-26 |
| 发明（设计）人： | 黎关超;周波;何伟;王超 | 申请（专利权）人： | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司11257 | 代理人： | 付生辉 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种喷头、控制液滴扩散的系统及方法，包括至少一个朝向阵列基板方向送气的送气喷嘴和至少一个背离所述阵列基板方向吸气的回气喷嘴，其中所述送气喷嘴被设置在阵列基板的目标区上方，所述回气喷嘴被设置在阵列基板目标区外围的非目标区上方，所述送气喷嘴和回气喷嘴相互配合对设于喷头下方的阵列基板施加循环气流，以控制设置在阵列基板表面的液滴扩散。本发明通过气流的引导作用促进配向液的扩散，从而解决配向液扩散不均匀、扩散速度慢的问题；且本发明技术为灵活可变的双向系统，可适用于各尺寸的阵列基板，具有量产可行性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 喷头 控制 扩散 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种喷头，其特征在于，包括至少一个朝向阵列基板方向送气的送气喷嘴和至少一个背离所述阵列基板方向吸气的回气喷嘴，其中所述送气喷嘴被设置在阵列基板的目标区上方，所述回气喷嘴被设置在阵列基板目标区外围的非目标区上方，所述送气喷嘴和回气喷嘴相互配合对设于喷头下方的阵列基板施加循环气流，以控制设置在阵列基板表面的液滴扩散。
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