[发明专利]一种大角度小偏移量窄带滤光片及其制备方法在审
| 申请号： | 201710903724.0 | 申请日： | 2017-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN107703576A | 公开（公告）日： | 2018-02-16 |
| 发明（设计）人： | 王英剑;范辛 | 申请（专利权）人： | 苏州京浜光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28 |
| 代理公司： | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙)32231 | 代理人： | 张宇 |
| 地址： | 215501 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种大角度小偏移量窄带滤光片，其选用硅和二氧化钛作为镀膜材料，在特殊的工艺条件下，可以使硅的折射率达到3.8‑4.4，TiO2的折射率达到2.3‑2.6,可以满足大角度小偏移的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 角度 偏移 窄带 滤光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种大角度小偏移量窄带滤光片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)取K9玻璃或D263T玻璃为基底材料；(2)在基底材料的一面交替蒸镀Si和TiO2，膜层在60‑68层之间，Si的厚度控制在50‑350nm之间，TiO2的厚度控制在70‑300nm之间，总厚度控制在6000‑7000nm之间，蒸镀方法是溅射镀膜，加离子束辅助技术，在镀Si层时，需充入氢气，在镀TiO2层时，需要充入氧气；(3)在基底的另一面采用常规的电子束加离子束蒸发技术，膜层在80‑88层之间，采用的镀膜材料为TiO2和SiO2，其中TiO2的厚度控制在30‑150nm之间，SiO2的厚度控制在20‑200nm之间，总厚度在6000‑7000nm之间，在镀膜过程中需要充入氩气和氧气。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州京浜光电科技股份有限公司，未经苏州京浜光电科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710903724.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
