[发明专利]一种光耦合结构及其制造方法在审
| 申请号： | 201710867704.2 | 申请日： | 2017-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN109541754A | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 张冶金;徐洋;王庆飞;田林岩;潘教青 | 申请（专利权）人： | 北京万集科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/34 | 分类号： | G02B6/34;G02B6/26 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹;李相雨 |
| 地址： | 100085 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光耦合结构及其制造方法。其中，所述光耦合结构包括：斜面光纤和硅基光栅单元，所述斜面光纤设置在所述硅基光栅单元的上表面，所述斜面光纤包括倾斜端面，所述倾斜端面与所述硅基光栅单元的上表面呈预设角度，所述硅基光栅单元包括硅基光栅和硅基输出波导，所述硅基输出波导为耦合波导结构；其中，在所述倾斜端面上设置多层薄膜结构，所述多层薄膜结构用于对所述斜面光纤中的激光束进行全反射，经过全反射的所述激光束照射到所述硅基光栅，并通过所述硅基输出波导耦合输出。本发明提供的光耦合结构及其制造方法，提高了光耦合效率。 | ||
| 搜索关键词： | 硅基 光耦合结构 光栅单元 输出波导 光纤 多层薄膜结构 光栅 倾斜端面 全反射 上表面 耦合波导结构 制造 光耦合效率 激光束照射 耦合输出 激光束 倾斜端 预设 | ||
【主权项】：
1.一种光耦合结构，其特征在于，包括：斜面光纤和硅基光栅单元，所述斜面光纤设置在所述硅基光栅单元的上表面，所述斜面光纤包括倾斜端面，所述倾斜端面与所述硅基光栅单元的上表面呈预设角度，所述硅基光栅单元包括硅基光栅和硅基输出波导，所述硅基输出波导为耦合波导结构；其中，在所述倾斜端面上设置多层薄膜结构，所述多层薄膜结构用于对所述斜面光纤中的激光束进行全反射，经过全反射的所述激光束照射到所述硅基光栅，并通过所述硅基输出波导耦合输出。
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