[发明专利]一种具有射线及中子综合屏蔽效果的钨硼层状材料有效
| 申请号： | 201710847494.0 | 申请日： | 2017-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN107805777B | 公开（公告）日： | 2020-05-15 |
| 发明（设计）人： | 段永华;李平 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | C23C8/68 | 分类号： | C23C8/68;G21F1/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 650093 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明公开一种具有射线及中子综合屏蔽效果的钨硼层状材料，属于屏蔽材料技术领域。该钨硼层状材料由钨或钨合金、渗硼层组成，其中渗硼层的厚度为38~45μm，硼以硼化物的形式存在于渗硼层中，钨合金为Ni、Cu、Nb、Co、Mo、Cr或C元素与钨元素组成的合金，其中钨质量百分比为85~99%。相比传统的钨及其合金材料，这种特殊的层状结构使钨硼复合材料对X射线，γ射线和中子均具有较为显著的屏蔽效果，同时具有强度高、硬度高、导电性好、耐腐蚀性优良等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 射线 中子 综合 屏蔽 效果 层状 材料 | ||
【主权项】：
一种具有射线及中子综合屏蔽效果的钨硼层状材料，其特征在于：该材料由钨或钨合金、渗硼层组成，其中渗硼层的厚度为38~45μm。
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