[发明专利]一种阻隔膜

摘要

本发明涉及一种光学用薄膜，尤其涉及一种光学用阻隔膜及其制备方法。为了降低阻隔膜制备工艺的复杂性和降低生产成本，本发明提供一种阻隔膜及其制备方法。所述阻隔膜包括基材层和阻隔层，所述阻隔层包括第一阻隔层和第二阻隔层；所述第一阻隔层在基材层的上表面，第二阻隔层在第一阻隔层的上表面。所述阻隔层在紫外光固化作用下分层得到第一阻隔层和第二阻隔层。本发明提供的阻隔膜具有较高的单层水氧透过率以及高阻隔性，广泛应用于液晶显示设备，能够更好的保护显示设备，提高显示器的使用寿命。本发明提供的阻隔膜的制备方法降低了工艺的复杂性，制备过程不需要真空环境，工艺简单，便于操作，提高生产良率。

主权项

1.一种阻隔膜，其特征在于，所述阻隔膜由基材层和阻隔层组成，所述阻隔层包括第一阻隔层和第二阻隔层，所述阻隔层在紫外光固化作用下分层得到第一阻隔层和第二阻隔层，所述第一阻隔层在基材层的上表面，第二阻隔层在第一阻隔层的上表面；所述基材层的材料为PVDF；在制备过程中，所述阻隔层的材料先配置成涂布液，所述涂布液包括：25‑26％的全氢聚硅氮烷，2.8‑3％的有机聚硅氮烷，1.2‑1.5％的纳米填料，1％的光固化剂，68.5‑70％的溶剂，所述百分比为重量百分比。