[发明专利]一种非均匀媒质中特定光分布的光源计算方法有效
| 申请号： | 201710591627.2 | 申请日： | 2017-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN107844457B | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 赵会娟;闫盼盼;赵宽心;高峰 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | G06F17/12 | 分类号： | G06F17/12;G06F30/20 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 程毓英 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种非均匀媒质中特定光分布的光源计算方法：(1)已知非均匀媒质中的光学参数分布和非均匀媒质中想要得到的光强的分布情况；(2)根据光学参数的分布对非均匀媒质进行分区域；(3)将DMD的光源阵列进行分区；(4)利用GPU加速的蒙特卡洛模拟MCX进行正向计算，即设与光源阵列分区对应的非均匀媒质表面光源区域的入射光均为均匀面光源，MCX计算非均匀媒质中光流率的归一化分布A；(5)列线性方程组，并求线性方程组的最小二乘解，得到媒质表面各光源区域应投射的光强大小；(6)由距离平方反比定律求得光源阵列各区域出射的光强分布，实现对目标非均匀媒质区域的定量精准投光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 媒质 特定 分布 光源 计算方法 | ||
【主权项】：
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