[发明专利]一种以硫系红外玻璃为基底的增透DLC膜及其制备方法

摘要

本发明公开了一种以硫系红外玻璃为基底的增透DLC膜及其制备方法。以硫系红外玻璃为基底的增透DLC膜，包括硫系红外玻璃基底层、DLC膜层、以及设在硫系红外玻璃基底层和DLC膜层之间的粘结层，粘结层包括相互交替的ZnSe层和Ge层，ZnSe层有2‑5层。本发明以硫系红外玻璃为基底的增透DLC膜，具有优异的增透效果、耐温性能、机械强度和附着力，且制备简单、易操作。

主权项

1.一种以硫系红外玻璃为基底的增透DLC膜，其特征在于：双面镀膜，其中，背面镀膜包括依次相接的ZnS层、第一YF3层、第一ZnSe’层、第二YF3层、第二ZnSe’层和硫系红外玻璃基底层，其中，ZnS层的厚度为200±5nm、第一YF3层的厚度为1046±5nm、第一ZnSe’层的厚度为296±5nm、第二YF3层的厚度为105±5nm、第二ZnSe’层的厚度为865±5nm；正面镀膜包括依次设在硫系红外玻璃基底层上的DLC膜层、以及设在硫系红外玻璃基底层和DLC膜层之间的粘结层，粘结层包括相互交替的ZnSe层和Ge层，ZnSe层有3层；各层依次为：顺序相接的硫系红外玻璃基底层、第一ZnSe层、第一Ge层、第二ZnSe层、第二Ge层、第三ZnSe层、第三Ge层和DLC膜层；第一ZnSe层、第二ZnSe层和第三ZnSe层的厚度依次递减；从第一ZnSe层到DLC膜层，各层的物理厚度依次为400±5nm、242±5nm、246±5nm、177±5nm、180±5nm、400±5nm和1285±5nm；硫系红外玻璃基底层的厚度为2‑10mm；以硫系红外玻璃为基底的增透DLC膜的制备方法：依次在硫系红外玻璃基底层上制作粘结层和DLC膜层，粘结层的制备采用含有离子源的镀膜机在真空状态下进行镀膜，起始真空度为(1±0.1)×10^‑3Pa；离子源的加速电压为200±10V，屏极电压为400±10V，束流为40±5mA。