[发明专利]一种中空结构的硼酸基氧化锡印迹复合纳米微球、其制备方法及其应用有效
| 申请号： | 201710455041.3 | 申请日： | 2017-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN107096514B | 公开（公告）日： | 2019-09-27 |
| 发明（设计）人： | 彭银仙;贾强;黄晓斌;王晓静;夏大厦;周夏芝 | 申请（专利权）人： | 江苏科技大学 |
| 主分类号： | B01J20/26 | 分类号： | B01J20/26;B01J20/28;B01J20/30;B01D15/08;C08F220/20;C08F220/06;C08F230/06 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 楼高潮 |
| 地址： | 212003*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种中空结构的硼酸基氧化锡印迹复合纳米微球、其制备方法及其应用。是以乙烯基改性的中空氧化锡微球为基质材料，目标印迹分子木犀草素(LTL)为模板，以甲基丙烯酸(MAA)和4‑乙烯基苯硼酸(4‑VBA)为功能单体，在交联剂、引发剂作用下进行印迹聚合，得到中空氧化锡内外表面印迹的分子印迹聚合物。中空硼酸基氧化锡纳米复合材料直径100‑300nm，壁厚5‑20nm，复合微球内外表面具有丰富的硼酸基团，增加了吸附材料的比表面积，提高了吸附提取效率，且该吸附材料粒径均匀，分散良好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 中空 结构 硼酸 氧化 印迹 复合 纳米 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.中空结构的硼酸基氧化锡印迹复合纳米微球，其特征在于，是以乙烯基改性的中空氧化锡微球为基质材料，目标印迹分子为模板，以甲基丙烯酸和4‑乙烯基苯硼酸为功能单体，在交联剂、引发剂作用下进行印迹聚合，得到中空氧化锡内外表面印迹的分子印迹聚合物，所述的目标印迹分子为木犀草素。
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