[发明专利]一种基于循环伏安法的Ni-B CMMA多层合金制备方法有效
申请号: | 201710426062.2 | 申请日: | 2017-06-08 |
公开(公告)号: | CN107268045B | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 李保松;环宇星;张薇薇 | 申请(专利权)人: | 河海大学 |
主分类号: | C25D3/56 | 分类号: | C25D3/56;C25D15/00;C25D5/18 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 施昊 |
地址: | 211100 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于循环伏安法的Ni‑B CMMA多层合金制备方法,以石墨或镍板或不溶性涂层电极为对电极、工件为工作电极,通过循环伏安法周期性调控沉积参数,获得组成和结构能够调控的Ni‑B合金,该Ni‑B合金为CMMA多层结构,其层数为30~1000。本发明采用循环伏安法制备Ni‑B多层合金,相比传统恒电流或恒电位技术,更易实现多层合金的制备,更容易实现对沉积过程、沉积厚度、扫描周期的调控,获得的多层结构大大抑制了涂层贯穿孔的形成,耐蚀性显著提高。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 循环 伏安 ni bcmma 多层 合金 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于循环伏安法的Ni‑B CMMA多层合金制备方法,其特征在于:以石墨或镍板或不溶性涂层电极为对电极、工件为工作电极,通过循环伏安法周期性调控沉积参数,获得组成和结构能够调控的Ni‑B合金,该Ni‑B合金为CMMA多层结构,其层数为30~1000;循环伏安法的扫描电位E∈[E1,E2],其中,‑1.5V≤E1≤‑0.8V,‑0.5V≤E2≤0.1V,电位扫描速率v的范围为1mV/s≤v≤100mV/s,扫描周期数等于合金层数,以上电位均相对于饱和甘汞电极;该制备方法的电解液以质量浓度计由以下成分组成:150~350g/L镍盐,1~6g/L三甲胺硼烷,20~50g/L硼酸,0.1~2g/L助剂,0~1g/L润湿剂,溶剂为水。
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