[发明专利]一种过滤膜的制备方法在审
| 申请号： | 201710354738.1 | 申请日： | 2017-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN107158958A | 公开（公告）日： | 2017-09-15 |
| 发明（设计）人： | 宋崇顺;史晓华 | 申请（专利权）人： | 苏州光舵微纳科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00 |
| 代理公司： | 苏州华博知识产权代理有限公司32232 | 代理人： | 黄丽莉 |
| 地址： | 215500 江苏省苏州市常熟经*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种过滤膜的制备方法，其包括以下步骤1)涂胶，在基膜的表面涂覆一层均匀的压印胶，在基膜表面形成压印胶层；2)压印，压印模板下压，使得压印模板上凸出的纳米结构与压印胶层表面接触，在压印胶层表面形成相应的图形化纳米结构；3)刻蚀，利用刻蚀机对具有压印胶层的基膜进行刻蚀，在基膜上刻蚀出相应的孔洞，形成过滤膜；4)清洗，将过滤膜上多余的压印胶通过酸溶液进行清洗。本发明一种过滤膜的制备方法采用压印胶进行压印，效率高，质量好，尤其适用于对大尺寸过滤膜的制备。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 滤膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种过滤膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：1)涂胶，在基膜的表面涂覆一层均匀的压印胶，在基膜表面形成压印胶层；2)压印，压印模板下压，使得压印模板上凸出的纳米结构与压印胶层表面接触，在压印胶层表面形成相应的图形化纳米结构；3)刻蚀，利用刻蚀机对具有压印胶层的基膜进行刻蚀，在基膜上刻蚀出相应的孔洞，形成过滤膜；4)清洗，将过滤膜上多余的压印胶通过酸溶液进行清洗。
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