[发明专利]一种具有释放负离子功能的陶瓷砖及其制备方法有效
申请号: | 201710349611.0 | 申请日: | 2017-05-17 |
公开(公告)号: | CN107188615B | 公开(公告)日: | 2019-08-23 |
发明(设计)人: | 赵光岩;刘俊荣;蒋祥莉 | 申请(专利权)人: | 佛山欧神诺陶瓷有限公司 |
主分类号: | C04B41/89 | 分类号: | C04B41/89;C03C8/20 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 王国标 |
地址: | 528000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有释放负离子功能的陶瓷砖,其自下而上依次为砖坯层、透明釉层、凹陷釉料层和负离子材料层,所述凹陷釉料层在烧成过程中与透明釉反应形成凹槽结构,所述负离子材料层覆盖在所述凹槽表面。本发明通过凹陷釉料层在透明釉料层上形成凹槽结构,同时负离子材料层覆盖在凹槽表面,实现了负离子材料与外界空气充分接触,大大提高负离子材料的有效利用率。且,陶瓷砖上的凹槽结构增加了其层次感,提高了陶瓷砖整砖的逼真度及防滑效果。本发明的陶瓷砖可有效防止其在磨边和抛光处理过程中负离子材料的损失,使得经磨边和抛光处理后的陶瓷砖仍具有高效的负离子释放能力。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 释放 负离子 功能 陶瓷砖 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种具有释放负离子功能的陶瓷砖,其特征在于:自下而上依次为砖坯层、透明釉层、凹陷釉料层和负离子材料层,所述凹陷釉料层在烧成时与透明釉层反应在透明釉层上形成凹槽结构,所述负离子材料层覆盖在所述凹槽表面,所述凹槽结构的宽度范围为0.8~1.8mm,平均深度范围为0.15~0.18mm,所述负离子材料层由经稀土元素掺杂的电气石材料形成,所述透明釉层的釉料按重量百分比计包括如下原料组分:长石20~30%、霞石15~25%、石英15~20%、方解石6~15%、白云石10~15%、BaCO3 13~16%、高温熔块5~12%和氧化锌4~8%。
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