[发明专利]一种液体润湿性能可控的表面制备方法在审

专利信息
申请号: 201710325048.3 申请日: 2017-05-10
公开(公告)号: CN107151337A 公开(公告)日: 2017-09-12
发明(设计)人: 吴化平;杨哲;徐振雄;梁利华;刘爱萍;鲁聪达;丁浩;张征;李吉泉;曹彬彬 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08L83/04
代理公司: 杭州之江专利事务所(普通合伙)33216 代理人: 朱枫
地址: 310014 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种液体润湿性能可控的表面制备方法,包括以下步骤步骤(1)制备聚二甲基硅氧烷的涂覆液;步骤(2)制备掩模板;(3)旋涂涂覆液;步骤(4)制备柔性波状结构;步骤(5)润湿性能的调控。可以通过简单的力学控制实现润湿性能的控制,既可在步骤(4)中控制基底VHB的拉伸应变量控制波形表面的幅值和频率,也可对波形表面进行原位拉伸调控实现润湿性能的改变。
搜索关键词: 一种 液体 润湿 性能 可控 表面 制备 方法
【主权项】:
一种液体润湿性能可控的表面制备方法,其特征在于包括以下步骤:步骤(1)制备涂覆液:将聚二甲基硅氧烷的预聚物与交联剂以质量为10:1的比例混合搅拌均匀,之后放置在真空干燥箱中用真空泵抽取20min,去除溶液中的气泡,制得聚二甲基硅氧烷的涂覆液;步骤(2)制备掩模板:取一片长50mm、宽25mm、厚1mm的硅模板,利用三维绘图软件绘制出凹槽结构的排布图,所述凹槽结构的排布图是在模板正面以单元凹槽阵列,单元凹槽宽为10µm、深为40µm,凹槽间间距为10µm,;然后以绘制的凹槽结构的排布图为参照,对硅模板进行加工处理;选用的基底为玻璃基底,并对其进行预清洗,即将玻璃基底依次在丙酮、无水酒精、去离子水中超声10~20min,超声频率为50~100Hz,之后用水洗净并进行干燥处理;步骤(3)旋涂涂覆液:将处理好的硅模板紧密贴合在预清洗后的玻璃基底表面上;将步骤(1)制备的涂覆液通过旋涂的方式均匀覆盖在掩模板表面,具体旋涂方式的旋涂次数为1次,所用旋涂机主轴转速为8000rad/min,旋涂时长为20s,之后将旋涂有涂覆液的模板以温度为75℃干燥20min,从而在掩模板表面上形成涂覆液的薄膜;步骤(4)制备柔性波状结构:准备厚度为1mm、宽为25mm的VHB胶带,先将VHB胶带拉伸,并维持50%的应变量,然后将步骤(3)制得的掩盖板旋涂有涂覆液薄膜的一面与拉伸后的VHB胶带紧密贴合,在温度为80℃‑90℃的烘箱中处理2个小时;之后将玻璃基底与硅模板揭下,复制了硅模板梯度结构的涂覆液薄膜便与VHB胶带紧密贴合;最后释放对VHB胶带的拉力,紧贴在VHB胶带表面上的聚二甲基硅氧烷薄膜便由于收缩力在其表面上产生波状微表面结构;步骤(5)润湿性能的调控:润湿性能的调控分为两种,一是在步骤(4)中控制VHB胶带拉伸的应变量,从而控制柔性基底波形的幅值和频率,进而控制液滴接触状态控制润湿性能;二是对于形成的柔性波形多级微结构再次拉伸,控制液滴润湿性能。
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