[发明专利]一种具有支柱支撑的回音壁模式光子学器件及其制备方法和用途有效
申请号: | 201710283543.2 | 申请日: | 2017-04-26 |
公开(公告)号: | CN108808433B | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 赵永生;张春焕;董海云 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | H01S3/08 | 分类号: | H01S3/08;C09D133/12;G03F7/004 |
代理公司: | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人: | 刘元霞;牛艳玲 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明属于光子学器件领域,具体涉及一种具有支柱支撑的回音壁模式光子学器件及其制备方法和用途。具体而言,本发明提供一种具有支柱支撑的微盘,其中所述支柱包含第一电子束抗蚀剂,所述微盘包含第二电子束抗蚀剂,并且所述第一电子束抗蚀剂的分子量低于所述第二电子束抗蚀剂。本发明的具有支柱支撑的微盘及微盘阵列结构及回音壁模式光学谐振微腔和光子学器件的制备工艺简单、操作方便、成本低,可以大规模制备,并且具有高品质因数和光谱调制功能,解决了传统高品质微腔制备过程中需要单独刻蚀基底的问题,可实现多个微腔的耦合作用;该方法实用性广,尤其适用于光子学集成元件的设计和应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 支柱 支撑 回音壁 模式 光子 器件 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】:
1.一种具有支柱支撑的微盘,其中所述支柱包含第一电子束抗蚀剂,所述微盘包含第二电子束抗蚀剂,并且所述第一电子束抗蚀剂的分子量低于所述第二电子束抗蚀剂;优选地,所述支柱由第一电子束抗蚀剂构成,所述微盘由第二电子束抗蚀剂构成;优选地,所述第一电子束抗蚀剂和第二电子束抗蚀剂的分子量不相同,例如选自分子量不同的线型聚合物;优选地,所述由第一电子束抗蚀剂构成的支柱下方还设置有基底;所述基底可以选自可以旋涂高分子材料的导电或不导电的基底,例如选自下列的一种或多种:硅片、石英片、玻璃片、导电玻璃片、氟化镁、金属薄膜、增强反射镜、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯等。
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