[发明专利]一种高折光材料及其合成方法有效

专利信息
申请号: 201710263305.5 申请日: 2017-04-20
公开(公告)号: CN107226908B 公开(公告)日: 2020-10-13
发明(设计)人: 李泽;田堃;杨雄发;郝超伟;来国桥;蒋剑雄;邱化玉 申请(专利权)人: 杭州师范大学
主分类号: C08G77/16 分类号: C08G77/16;C08G77/20;C08G77/24;C08G77/26
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 王江成
地址: 311121 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及高折光材料技术领域,为解决基于聚倍半硅氧烷开发高折光材料时存在的易交联、易升华、不易溶、不易加工等问题,本发明提出了一种高折光材料及其合成方法,所述高折光材料为具有结构式如(I)所示的聚合物1,或者具有结构式如(II)所示的聚合物2,或者具有结构式如(III)所示的聚合物3,这种高折光材料具有优异热稳定性,并且不易升华、易溶于常见溶剂、易加工,可进一步进行化学修饰。
搜索关键词: 一种 折光 材料 及其 合成 方法
【主权项】:
一种高折光材料,其特征在于,所述高折光材料为具有结构式如(I)所示的聚合物1,或者具有结构式如(II)所示的聚合物2,或者具有结构式如(III)所示的聚合物3,上式中,X、Y、Z分别独立地选自氢、烷基、烯基、炔基、芳香基、环氧基、酯基、磺酸基、羧基、腈基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、巯基、硝基、胺基、C60中一种;R选自氢、烷基硅基、烯基硅基、炔基硅基、烷氧基硅基、芳香基硅基、环氧基硅基、酯基硅基、磺酸基硅基、羧基硅基、腈基硅基、卤代烷基硅基、卤代烯基硅基、卤代炔基硅基、巯基硅基、硝基硅基、胺基硅基、C60硅基中一种;a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、m、n、p、q为等于0或者大于0的整数。
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