[发明专利]一种高透光率低辐射镀膜玻璃的制作方法有效
| 申请号： | 201710222743.7 | 申请日： | 2017-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN106966608A | 公开（公告）日： | 2017-07-21 |
| 发明（设计）人： | 万永宁;李明飞 | 申请（专利权）人： | 东莞市银通玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 东莞市永桥知识产权代理事务所(普通合伙)44400 | 代理人： | 何新华 |
| 地址： | 523981 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种高透光率低辐射镀膜玻璃的制作方法，涉及镀膜玻璃技术领域，主要包括以下步骤：(1)将玻璃基板进行表面处理：清洗并烘干；(2)镀制高透光率低辐射玻璃膜层：采用磁控溅射沉积工艺，在玻璃基板上依次溅射内层介质层、功能层、外层介质层和保护层；(3)切割：切去边缘膜层并进行磨边；(4)钢化：将高透光率低辐射镀膜玻璃的镀膜面朝向导热传动辊，在680～750℃的温度下保持20～25min，得成品。本发明提供的制作方法制备的低辐射镀膜玻璃既具有较好的低辐射性能，又具有较高的可见光透过率，同时具有良好的使用性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透光率 辐射 镀膜 玻璃 制作方法 | ||
【主权项】：
一种高透光率低辐射镀膜玻璃的制作方法,其特征在于,包括以下步骤：(1)将玻璃基板进行表面处理：a.使用中性清洗剂清洗所述玻璃基板表面，并用去离子水冲洗3～5遍；b.鼓风机干燥15～20min，吹干水渍；(2)镀制高透光率低辐射玻璃膜层：a.采用磁控溅射沉积工艺，在真空度为2.4×10‑3～4.5×10‑3mbar的氮气和氩气氛围中，在所述玻璃基板上溅射内层介质层，沉积厚度为20～40nm，氮气和氩气的体积比为1:2.5～3.5，沉积功率为25～45kW；b.在真空度为1×10‑3～3×10‑3mbar的氩气氛围中，在所述内层介质层上溅射功能层，沉积厚度为8～12nm,沉积功率为7～15kW；c.在真空度为2×10‑3～5×10‑3mbar的氮气和氩气氛围中，在所述功能层上溅射外层介质层，沉积厚度为20～50nm，氮气和氩气的体积比为1:2.5～3.5，沉积功率为20～40kW；d.采用硅铝合金靶，在真空度为2×10‑3～4×10‑3mbar的氮气和氩气氛围中，在所述外层介质层上镀制保护层，沉积厚度为5～25nm，氮气与氩体积比为1：2～3，沉积功率为15～35kW；(3)切割：切去边缘膜层并进行磨边；(4)钢化：将高透光率低辐射镀膜玻璃的镀膜面朝向导热传动辊，在680～750℃的温度下保持20～25min，得成品。
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