[发明专利]工业水处理装置清污除垢剂及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201710208906.6 申请日: 2017-03-31
公开(公告)号: CN106967537A 公开(公告)日: 2017-07-21
发明(设计)人: 梁金平;张淑范 申请(专利权)人: 河北翔泰蓝星精细化工有限公司
主分类号: C11D7/60 分类号: C11D7/60;C11D7/36;C11D7/34;C11D7/26;C11D7/32;C23F11/10;C23F11/18
代理公司: 大庆市远东专利商标事务所23202 代理人: 马洪发
地址: 065903*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明的工业水处理装置清污除垢剂及其制备方法涉及一种水垢清除领域,是由下列组份按重量份数制成羟基乙叉二膦酸100~250份、水解聚马来酸酐250~500份、丙烯酸‑2‑丙烯酰胺‑2‑甲基丙磺酸共聚物300~500份、甲基苯并三氮唑10~50份、氢氧化钠0.01~0.05份、水30~70份。本发明的工业水处理装置清污除垢剂,复配所需的单体为 磺酸、磷磺酸及多功能磺酸共聚物。其除垢性能优良,在高硬度、高碱度、高浓缩运行情况下,仍能发挥其优良的除垢性能。其次,该药剂在复配过程中添加了多种缓蚀除垢功能药剂,对碳钢、不锈钢、铜及多种设备材质,具有良好的除垢缓蚀作用,有效地防止腐蚀。
搜索关键词: 工业水处理 装置 除垢剂 及其 制备 方法
【主权项】:
工业水处理装置清污除垢剂,是由下列组份按重量份数制成:羟基乙叉二膦酸100~250份、水解聚马来酸酐250~500份、丙烯酸‑2‑丙烯酰胺‑2‑甲基丙磺酸共聚物300~500份、甲基苯并三氮唑10~50份、氢氧化钠0.01~0.05份、水30~70份。
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