[发明专利]一种光学设备及准分子激光退火系统有效
申请号: | 201710183496.4 | 申请日: | 2017-03-24 |
公开(公告)号: | CN106785817B | 公开(公告)日: | 2020-03-06 |
发明(设计)人: | 田香军;陈艳;王学勇;王治 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01S3/00 | 分类号: | H01S3/00 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭润湘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种光学设备及准分子激光退火系统,包括光源,与光源相隔设定距离的透明窗口,以及设置在光源与透明窗口之间的光学系统;透明窗口被构造成使得光源的出射光经过光学系统后垂直入射至透明窗口。由于光源的出射光在经过光学系统后垂直入射至透明窗口,因此由透明窗口反射回光学系统的反射光可以按入射光的反方向原路返回,从而使得反射光在经过光源和/或光学系统中的光学镜片的反射后重新向透明窗口出射的光线的传播方向与原出射光线相同,由此可将透明窗口的反射光重新作为出射光线,提高了最终到达透明窗口的光线的能量密度,有效降低了透明窗口对光源能量的衰减,节省能源。 | ||
搜索关键词: | 一种 光学 设备 准分子激光 退火 系统 | ||
【主权项】:
一种光学设备,其特征在于,包括:光源,与所述光源相隔设定距离的透明窗口,以及设置在所述光源与所述透明窗口之间的光学系统;其中,所述透明窗口被构造成使得所述光源的出射光经过所述光学系统后垂直入射至所述透明窗口。
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