[发明专利]基于光栅尺与经纬仪标定离轴抛物镜离轴量的方法及装置在审
申请号: | 201710115529.1 | 申请日: | 2017-02-24 |
公开(公告)号: | CN106932179A | 公开(公告)日: | 2017-07-07 |
发明(设计)人: | 闫力松;李强;许伟才;姜永亮;张贵清;王玉雷;胡黎明;杨小威;胡海力 | 申请(专利权)人: | 湖北航天技术研究院总体设计所 |
主分类号: | G01M11/08 | 分类号: | G01M11/08 |
代理公司: | 武汉智汇为专利代理事务所(普通合伙)42235 | 代理人: | 樊黎 |
地址: | 430040*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了基于光栅尺与经纬仪标定离轴抛物镜离轴量的方法及装置,方法包括大致对准调制光路步骤、确定干涉仪焦点位置步骤、测定干涉仪焦点的位置步骤、测定离轴抛物镜镜面特征点边缘线位置步骤、测量第二平面反射镜十字线交叉点距离轴抛物镜镜面特征点边缘线距离步骤以及计算离轴抛物镜的离轴量步骤,通过设有十字线的第二平面反射镜找到离轴抛物镜特征位置,光栅尺及经纬仪配合使用可以实现对两特征位置间距离进行精确测量,结合测量十字线与第二平面镜边缘间的距离,再通过计算即可得到检测时的离轴抛物镜的离轴量数值,若与理论离轴量的偏差不合格,则调整离轴抛物镜的位置,直至位置正确,该方法具有标定精度高、标定步骤简单等优点。 | ||
搜索关键词: | 基于 光栅尺 经纬仪 标定 离轴抛 物镜 离轴量 方法 装置 | ||
【主权项】:
基于光栅尺与经纬仪标定离轴抛物镜离轴量的方法,包括如下步骤,大致对准调制光路步骤:完成干涉仪、第一平面反射镜及离轴抛物镜的大致对准,大致对准后通过干涉仪对离轴抛物镜检测,可检测得到到干涉图;确定干涉仪焦点位置步骤:在干涉仪焦点位置放置设有刻画十字线的第二平面反射镜,使得第二平面反射镜的十字线交叉点与干涉仪焦点重合;测定干涉仪焦点的位置步骤:用光栅尺与经纬仪测定第二平面反射镜的十字线交叉点的位置,将经纬仪放置于光栅尺上,通过经纬仪对第二平面反射镜的十字线交叉点成像,在光栅尺上读出此时经纬仪在光栅尺上的位置读数记录为读数1;测定离轴抛物镜镜面特征点边缘线位置步骤:移动第二平面反射镜,使其一条镜面边缘线与离轴抛物镜镜面特征点边缘线重合,同时将经纬仪沿光栅尺移至对应位置使其对移动后的第二平面反射镜十字线成像,在光栅尺上读出此时经纬仪在光栅尺上的位置数记录为读数2;测量第二平面反射镜十字线交叉点距离轴抛物镜镜面特征点边缘线距离步骤:测量第二平面反射镜十字线交叉点距离第二平面反射镜一条镜面边缘线的距离,所述这一条镜面边缘线与离轴抛物镜镜面特征点边缘线重合,该距离读数记录为读数3;计算离轴抛物镜的离轴量步骤:离轴抛物镜的离轴量=(读数2)‑(读数1)‑(读数3)。
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