[发明专利]反射型阵列基板及其制备方法、显示装置有效
| 申请号： | 201710113747.1 | 申请日： | 2017-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN106898615B | 公开（公告）日： | 2020-06-30 |
| 发明（设计）人： | 董水浪;卢鑫泓;董立文 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/12 | 分类号： | H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张京波;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种反射型阵列基板及其制备方法、显示装置。反射型阵列基板包括衬底基板，设置在衬底基板正面的阵列结构层，以及光反射层，所述光反射层设置在衬底基板背离所述阵列结构层的背面。本发明实施例通过将光反射层设置在衬底基板的背面，在形成阵列结构层工艺后形成光反射层，相对于利用像素电极作为光反射层的现有技术，避免了在过厚的平坦化层上进行过孔工艺，相对于将光反射层设置在阵列结构层下方的现有技术，避免了阵列结构层工艺的低温要求。本发明实施例降低了反射型LCD制备工艺的难度，且无需对现有制备工艺进行较大改动。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 阵列 及其 制备 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种反射型阵列基板，包括衬底基板，设置在衬底基板正面的阵列结构层，以及光反射层，其特征在于，所述光反射层设置在衬底基板背离所述阵列结构层的背面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
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