[发明专利]气体分布装置及具有其的浆态床反应器在审
| 申请号： | 201710100889.4 | 申请日： | 2017-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN106824015A | 公开（公告）日： | 2017-06-13 |
| 发明（设计）人： | 吴道洪;刘周恩;史雪君;余海鹏;苏二强;李少雨;吴黎阳;黄伟;史东军 | 申请（专利权）人： | 北京神雾环境能源科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | B01J8/18 | 分类号： | B01J8/18;B01J8/22 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 102200 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了气体分布装置及具有其的浆态床反应器。气体分布装置包括进气管，所述进气管具有进气口和出气口；均布件，所述均布件设在所述进气管上，所述均布件内设有气体通道，所述气体通道与所述出气口连通，所述气体通道的底壁上设有多个均气孔，所述多个均气孔绕所述进气管的周向间隔分布；扰流件，所述扰流件设在所述进气管上且位于所述均布件的下方，所述扰流件被构造成扰动空气流动。根据本发明的气体分布装置，可在较低压降下实现釜体内的气体的均匀分布，并能有效解决釜体内固体颗粒的沉积问题。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 分布 装置 具有 浆态床 反应器 | ||
【主权项】：
一种气体分布装置，其特征在于，包括：进气管，所述进气管具有进气口和出气口；均布件，所述均布件设在所述进气管上，所述均布件内设有气体通道，所述气体通道与所述出气口连通，所述气体通道的底壁上设有多个均气孔，所述多个均气孔绕所述进气管的周向间隔分布；扰流件，所述扰流件设在所述进气管上且位于所述均布件的下方，所述扰流件被构造成扰动空气流动。
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