[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置在审
| 申请号： | 201710049386.9 | 申请日： | 2017-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN108346620A | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 方金钢;宋泳锡;孙宏达;李伟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/77 | 分类号： | H01L21/77;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 姜春咸;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种阵列基板的制作方法，包括：形成包括遮光件的图形；涂覆有机材料溶液；对所述有机材料溶液进行固化，以形成缓冲层；在所述缓冲层上方形成包括薄膜晶体管的有源层的图形，所述有源层的位置与所述遮光件的位置相对应；形成包括所述薄膜晶体管的栅极的图形，所述栅极位于所述有源层上方且与所述有源层绝缘间隔。相应地，本发明还提供一种阵列基板和显示装置。本发明能够改善由于遮光件的设置而导致的栅金属层断裂的现象。 | ||
| 搜索关键词： | 源层 阵列基板 遮光件 有机材料溶液 薄膜晶体管 显示装置 缓冲层 绝缘间隔 栅金属层 断裂的 涂覆 固化 制作 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：形成包括遮光件的图形；涂覆有机材料溶液；对所述有机材料溶液进行固化，以形成缓冲层；在所述缓冲层上方形成包括薄膜晶体管的有源层的图形，所述有源层的位置与所述遮光件的位置相对应；形成包括所述薄膜晶体管的栅极的图形，所述栅极位于所述有源层上方且与所述有源层绝缘间隔。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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