[发明专利]遮瑕膏及其制备方法在审
申请号: | 201710018013.5 | 申请日: | 2017-01-11 |
公开(公告)号: | CN106726692A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 吴志刚;张文泽;秦雅;黄刚毅;贺沛如 | 申请(专利权)人: | 杭州菲丝凯化妆品有限公司 |
主分类号: | A61K8/73 | 分类号: | A61K8/73;A61K8/34;A61K8/23;A61K8/41;A61K8/44;A61Q1/02;A61K8/29;A61K8/31;A61K8/36;A61K8/37;A61K8/891;A61K8/85;A61K8/86;A61K8/8 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司11508 | 代理人: | 林乐飞 |
地址: | 310018 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种遮瑕膏及其制备方法,该遮瑕膏包括甘油、EDTA二钠、黄原胶、硫酸镁、润肤剂、乳化剂、稳定剂、着色剂、二硬脂二甲铵锂蒙脱石、防腐剂和水;润肤剂选环五聚二甲基硅氧烷、环己硅氧烷、矿油、异壬酸异壬酯、聚二甲基硅氧烷、丁二醇二辛酸/二癸酸酯、聚甘油‑3二异硬脂酸酯;乳化剂选鲸蜡基PEG/PPG‑10/1聚二甲基硅氧烷、PEG/PPG‑15/15聚二甲基硅氧烷、山梨坦倍半油酸酯;稳定剂选用卵磷脂、聚羟基硬脂酸、肉豆蔻酸异丙酯、棕榈酸乙基己酯、异硬脂酸、聚甘油‑3聚蓖麻醇酸酯;着色剂选二氧化钛、三乙氧基辛基硅烷、CI77492、CI77491、CI77499,具有减少泛油光可能性效果。 | ||
搜索关键词: | 遮瑕膏 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种遮瑕膏,其特征在于,按质量百分比计,包括以下成分:甘油:2.0~12.0%;EDTA二钠:0.05~1.00%;黄原胶:0.01~1.00%;硫酸镁:0.5~3.0%;润肤剂:8.5~41.0%;乳化剂:2.0~12.0%;稳定剂:0.1~1.0%;着色剂:1.4~15.0%;二硬脂二甲铵锂蒙脱石:0.05~1.0%;防腐剂:0.3~1.5%;余量为水;所述润肤剂选用环五聚二甲基硅氧烷、环己硅氧烷、矿油、异壬酸异壬酯、聚二甲基硅氧烷、丁二醇二辛酸/二癸酸酯、聚甘油‑3二异硬脂酸酯中的一种或多种;所述乳化剂选用鲸蜡基PEG/PPG‑10/1聚二甲基硅氧烷、PEG/PPG‑15/15聚二甲基硅氧烷、山梨坦倍半油酸酯中的一种或多种;稳定剂选用卵磷脂、聚羟基硬脂酸、肉豆蔻酸异丙酯、棕榈酸乙基己酯、异硬脂酸、聚甘油‑3聚蓖麻醇酸酯中的一种或多种;所述着色剂选用二氧化钛、三乙氧基辛基硅烷、CI77492、CI77491、CI77499中的一种或多种。
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