[发明专利]电磁烹饪装置和控制电磁烹饪装置中的烹饪的方法有效
| 申请号： | 201680089496.1 | 申请日： | 2016-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN109792809B | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | D·古阿塔;V·诺切拉 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | H05B6/72 | 分类号： | H05B6/72 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 黄纶伟;李辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及电磁烹饪装置和控制电磁烹饪装置中的烹饪的方法。本文提供了一种电磁烹饪装置及其控制方法。该电磁烹饪装置包括其中放置液体的腔室和被配置为将电磁辐射引入该腔室以加热液体的多个射频馈源。提供控制器，其被配置为：分析多个射频馈源处的正向功率和反向功率以计算效率；确定并监视效率的变化系数；基于变化系数的改变来检测液体的加热状态；并响应于加热状态的检测来调节电磁辐射的功率电平。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁 烹饪 装置 控制 中的 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电磁烹饪装置，所述电磁烹饪装置包括：放置液体的腔室；多个射频馈源，所述多个射频馈源被配置为将电磁辐射引入所述腔室中以加热所述液体；以及控制器，所述控制器被配置为：分析所述多个射频馈源处的正向功率和反向功率以计算效率；确定并监视所述效率的变化系数；基于所述变化系数的改变来检测所述液体的加热状态；并且响应于所述加热状态的检测来调节所述电磁辐射的功率电平。
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