[发明专利]具有抗等离子体涂层的阴影掩模在审
申请号: | 201680085729.0 | 申请日: | 2016-05-24 |
公开(公告)号: | CN109219897A | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 黄曦;彭飞;基兰·克里希纳布尔;瑞平·王;伊恩·杰里·陈;史蒂文·韦尔韦贝克;罗伯特·简·维瑟 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种掩模组件(100)包括:掩模框(102)及掩模屏(104),该掩模框(102)及该掩模屏(104)两者以金属材料制成;及金属涂层(105),该金属涂层(105)安置在该掩模框(102)及该掩模屏(104)中的一或两者的暴露面上。 | ||
搜索关键词: | 掩模框 掩模 金属涂层 等离子体涂层 金属材料 掩模组件 阴影掩模 暴露 安置 | ||
【主权项】:
1.一种掩模组件,包括:掩模框及掩模屏,所述掩模框及所述掩模屏两者以金属材料制成;及金属涂层,安置在所述掩模框及所述掩模屏中的一或两者的暴露面上。
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H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
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H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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