[发明专利]具有抗等离子体涂层的阴影掩模在审

专利信息
申请号: 201680085729.0 申请日: 2016-05-24
公开(公告)号: CN109219897A 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 黄曦;彭飞;基兰·克里希纳布尔;瑞平·王;伊恩·杰里·陈;史蒂文·韦尔韦贝克;罗伯特·简·维瑟 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种掩模组件(100)包括:掩模框(102)及掩模屏(104),该掩模框(102)及该掩模屏(104)两者以金属材料制成;及金属涂层(105),该金属涂层(105)安置在该掩模框(102)及该掩模屏(104)中的一或两者的暴露面上。
搜索关键词: 掩模框 掩模 金属涂层 等离子体涂层 金属材料 掩模组件 阴影掩模 暴露 安置
【主权项】:
1.一种掩模组件,包括:掩模框及掩模屏,所述掩模框及所述掩模屏两者以金属材料制成;及金属涂层,安置在所述掩模框及所述掩模屏中的一或两者的暴露面上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料公司,未经应用材料公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201680085729.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top