[发明专利]用于压印微米或纳米结构的压印设备有效
| 申请号： | 201680069239.1 | 申请日： | 2016-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN108290438B | 公开（公告）日： | 2019-11-12 |
| 发明（设计）人： | A.劳赫;F.西弗斯;G.基弗绍尔;B.塞斯;C.富瑟;A.普雷特施;M.拉姆;M.海姆;W.霍夫米勒;H.扎施卡 | 申请（专利权）人： | 捷德货币技术有限责任公司 |
| 主分类号： | B42D25/425 | 分类号： | B42D25/425 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 任丽荣 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于制造防伪元件的设备，其中，防伪元件布置在薄膜幅面的正面和背面上并且由漆层中的、尺寸在微米或纳米范围内的压印结构组成。按照本发明，所述设备沿薄膜幅面的输送方向具有以下装置：用于提供薄膜幅面的装置；用于将能借助紫外线硬化的第一漆层施加在薄膜幅面的背面上的第一印刷机构；用于将尺寸在微米或纳米范围内的第一结构压印在第一漆层中的第一压印机构；用于将能借助紫外线硬化的第二漆层施加在薄膜幅面的正面上的第二印刷机构；用于将尺寸在微米或纳米范围内的第二结构压印在第二漆层中的第二压印机构。按照本发明，薄膜幅面从下方或斜下方导入第一印刷机构、从上方或斜上方导入第一压印机构、同样从上方或斜上方导入第二印刷机构并且又从下方或斜下方导入第二压印机构。作为对其的备选，薄膜幅面从上方或斜上方导入第一印刷机构、从下方或斜下方导入第一压印机构、同样从下方或斜下方导入第二印刷机构并且又从上方或斜上方导入第二压印机构。 | ||
| 搜索关键词： | 压印机构 印刷机构 漆层 薄膜 斜上方 压印 紫外线硬化 薄膜幅面 防伪元件 背面 施加 纳米结构 压印结构 压印设备 备选 制造 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造防伪元件的设备，其中，防伪元件布置在薄膜幅面的正面和背面上并且由漆层中的、尺寸在微米或纳米范围内的压印结构组成，其中，所述设备沿薄膜幅面的输送方向具有以下装置：·用于提供薄膜幅面的装置，·用于将能借助紫外线硬化的第一漆层施加在薄膜幅面的背面上的第一印刷机构，其中，薄膜幅面从下方或者至少从斜下方导入第一印刷机构，·用于将尺寸在微米或纳米范围内的第一结构压印在第一漆层中的第一压印机构，其中，薄膜幅面从上方或者至少从斜上方导入第一压印机构，·用于将能借助紫外线硬化的第二漆层施加在薄膜幅面的正面上的第二印刷机构，其中，薄膜幅面从上方或者至少从斜上方导入第二印刷机构，·用于将尺寸在微米或纳米范围内的第二结构压印在第二漆层中的第二压印机构，其中，薄膜幅面从下方或者至少从斜下方导入第二压印机构。
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