[发明专利]用于有机膜的化学机械研磨浆料组合物及使用其的研磨方法在审
| 申请号： | 201680057069.5 | 申请日： | 2016-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN108138030A | 公开（公告）日： | 2018-06-08 |
| 发明（设计）人： | 崔正敏;能条治辉;金高恩;金容国;朴容淳 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 彭雪瑞;臧建明 |
| 地址： | 韩国京畿道龙仁*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明揭示一种用于有机膜的化学机械研磨浆料组合物及使用其的研磨方法。化学机械研磨浆料组合物包含超纯水、磨料、含四价铈离子的铈盐及氧化剂，其中氧化剂在酸性区中具有1.72电子伏特或高于1.72电子伏特的氧化电位，且化学机械研磨浆料组合物的pH值为1至7。化学机械研磨浆料组合物可在pH值为1或高于1下使四价铈离子(Ce4+)稳定且因此可展现出对有机膜的高研磨速率。因此，可通过使用化学机械研磨浆料组合物的研磨方法来简单地移除有机膜，尤其是通过自对准双重图案化技术而形成的有机膜。 | ||
| 搜索关键词： | 化学机械研磨浆料 有机膜 研磨 氧化剂 四价铈离子 磨料 双重图案化 氧化电位 超纯水 自对准 移除 铈盐 | ||
【主权项】：
一种用于有机膜的化学机械研磨浆料组合物，其特征在于，包含：超纯水、磨料、含四价铈离子的铈盐及氧化剂，其中所述氧化剂在酸性区中具有1.72电子伏特或高于1.72电子伏特的氧化电位，且所述化学机械研磨浆料组合物的pH值为1至7。
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