[实用新型]真空灭弧室的触头及真空灭弧室有效
| 申请号： | 201620690163.1 | 申请日： | 2016-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN205789697U | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 王强;冉隆科;肖红;陈进 | 申请（专利权）人： | 成都凯赛尔电子有限公司 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610500 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开一种真空灭弧室的触头，包括：触头盘；以及与所述触头盘焊接连接形成一个触头功能单元的触头座，其外壁设有能产生磁场的斜槽及阻挡焊接时焊料流入该斜槽的台阶。它设计了台阶，焊料在高温下不会进入触头座斜槽内，不会影响斜槽产生的磁场，从而使触头达到很好的使用性能。本实用新型还公开一种真空灭弧室，包括上述结构的真空灭弧室的触头。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 灭弧室 | ||
【主权项】：
一种真空灭弧室的触头，其特征在于，包括：触头盘；以及与所述触头盘焊接连接形成一个触头功能单元的触头座，其外壁设有能产生磁场的斜槽及阻挡焊接时焊料流入该斜槽的台阶。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都凯赛尔电子有限公司，未经成都凯赛尔电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201620690163.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于真空灭弧室的触头及真空灭弧室
- 下一篇：真空灭弧室的陶瓷外壳及真空灭弧室
