[实用新型]用于真空灭弧室的触头及真空灭弧室有效
| 申请号： | 201620690161.2 | 申请日： | 2016-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN205789696U | 公开（公告）日： | 2016-12-07 |
| 发明（设计）人： | 王强;冉隆科;肖红 | 申请（专利权）人： | 成都凯赛尔电子有限公司 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610500 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种用于真空灭弧室的触头，包括：触头盘；与所述触头盘配合形成一个触头功能单元的外壁面设有斜槽的触头杯；位于所触头杯内的与该触头杯一体制成的支撑座；其中，所述支撑座与所述触头盘之间具有间隙。它的回路电阻小，在产生相对均匀的纵向磁场的同时，减小了回路电阻，提升了真空灭弧室的使用性能，从而能够有效地克服现有触头的不足。本实用新型还公开一种真空灭弧室。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 真空 灭弧室 | ||
【主权项】：
一种用于真空灭弧室的触头，其特征在于，包括：触头盘；与所述触头盘配合形成一个触头功能单元的外壁面设有斜槽的触头杯；以及位于所述触头杯内的与该触头杯一体制成的支撑座；其中，所述支撑座与所述触头盘之间具有间隙。
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