[实用新型]流体喷射设备有效
申请号: | 201620658386.X | 申请日: | 2016-06-28 |
公开(公告)号: | CN206121999U | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | D·朱斯蒂;L·科罗姆伯;C·L·佩瑞里尼;M·卡塔内奥 | 申请(专利权)人: | 意法半导体股份有限公司 |
主分类号: | B05B13/00 | 分类号: | B05B13/00;B05B12/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 王茂华,董典红 |
地址: | 意大利阿格*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种流体喷射设备,包括第一半导体本体,包括操作性地耦合至用于包含流体的室并被配置为引起流体的喷射的致动器以及在第一方向上延伸并具有第一尺寸的截面的用于流体的入口通道;以及第二半导体本体,耦合至第一半导体本体并具有被配置为排出流体的喷射喷嘴。第二半导体本体还包括第一限制通道,第一限制通道流体地耦合至入口通道、在与第一方向垂直的第二方向上延伸并具有小于第一尺寸的第二尺寸的相应截面,以在入口通道与室之间形成限制。根据本实用新型的方案,提供了具有限制通道的流体喷射设备。 | ||
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【主权项】:
一种流体喷射设备,其特征在于,包括:第一半导体本体,包括:致动器,操作性地耦合至室,所述室用于包含流体并被配置为在所述喷射设备的操作条件期间引起所述流体的喷射;以及用于所述流体的入口通道,在第一方向上延伸并具有第一尺寸的截面;以及第二半导体本体,耦合至所述第一半导体本体,具有与所述室流体连接且被配置为朝向所述喷射设备外部的环境排出一定量的所述流体的喷射喷嘴,其中,所述第二半导体本体还包括第一限制通道,所述第一限制通道流体地耦合至所述入口通道、在与所述第一方向垂直的第二方向上延伸并具有小于所述第一尺寸的第二尺寸的相应截面,所述限制通道针对所述流体形成将所述入口通道与所述室耦合的流体路径。
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