[实用新型]一种基于金属基平面纳尖簇电极的电调透光率薄膜有效
申请号: | 201620535879.4 | 申请日: | 2016-06-02 |
公开(公告)号: | CN205679874U | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 张新宇;彭莎;吴勇;袁莹;张波;魏东;信钊炜;王海卫;谢长生 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 朱仁玲 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种基于金属基平面纳尖簇电极的电调透光率薄膜,其包括:由金属平面纳尖簇线密集排布构成的一层图案化阳极和一层平面金属纳膜阴极/阳极,它们被分别制作在透光的纳米厚度的基膜/光学介质层的两个外表面上;在加电态下,图案化阳极中的金属平面纳尖与金属纳膜阴极/阳极间形成局域弯曲的锐化电场阵,阴极/阳极上可自由移动的电子被阴阳电极间所激励的阵列化纳电场驱控,向各纳电场中电场强度最强部位聚集。本实用新型基于金属基平面纳尖簇电极的电调透光率薄膜可对宽谱域内的强功率入射波束的光透过率执行电控调变,具有偏振不敏感、驱控灵活及调光响应快的特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 金属 平面 纳尖簇 电极 透光率 薄膜 | ||
【主权项】:
一种基于金属基平面纳尖簇电极的电调透光率薄膜,包括一对保护膜、平面阳极、金属基平面纳尖簇阴极、一对基膜以及电隔离膜,其特征在于,顶部保护膜和底部保护膜分别设置在电调透射光薄膜的顶部和底部;上部基膜和下部基膜分别设置在顶部保护膜的下方和底部保护膜的上方,并分别设置在平面阳极和金属基平面纳尖簇阴极的光入射面和光出射面上;平面阳极设置在上部基膜的表面,并由透光的纳米厚度材料制成;金属基平面纳尖簇阴极设置在下部基膜的表面,并由基于高密度排布的金属平面微纳线尖簇构成;电隔离膜填充在平面阳极和金属基平面纳尖簇阴极间;金属基平面纳尖簇阴极上的纳尖簇线以交错的方式呈锯齿状均匀排布。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201620535879.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种高效防病的养猪方法
- 下一篇:开胃滋补的芥末风味鱼粒及其制备方法