[实用新型]一种平动抛光机有效
申请号: | 201620474659.5 | 申请日: | 2016-05-20 |
公开(公告)号: | CN205734380U | 公开(公告)日: | 2016-11-30 |
发明(设计)人: | 王天雷;耿爱农;李辛沫;朱飞;张京玲 | 申请(专利权)人: | 五邑大学 |
主分类号: | B24B31/06 | 分类号: | B24B31/06;B24B31/12 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 利宇宁 |
地址: | 529000*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型属于抛光技术领域,涉及一种平动抛光机,它包括第一导轨及可沿该第一导轨往返滑行并受该第一导轨约束的第一平台、第二导轨及可沿该第二导轨往返滑行并受该第二导轨约束的第二平台、含有散粒状磨料的研磨抛光介质及盛装该研磨抛光介质的容器。与现有技术相比,本产品的最大特色在于采用导轨约束和可控电机的驱动方式来调控工件的抛光行为,同时结合自由散粒状磨料特有的研磨性质,籍此获得工件全局可控的研磨轨迹、研磨速度和研磨压力,不仅能够全局抛光异形工件的复杂表面,而且能够保证抛光质量的一致性;此外,抛光全程少用甚至弃用电解或化学的抛光手段,由此减少乃至避免了抛光作业对环境造成的电化学污染。 | ||
搜索关键词: | 一种 平动 抛光机 | ||
【主权项】:
一种平动抛光机,其特征在于:包括盛装有自由散粒状磨料的研磨抛光介质的容器、第一导轨及可沿该第一导轨滑行并受该第一导轨约束的第一平台、第二导轨及可沿该第二导轨滑行并受该第二导轨约束的第二平台、驱动第一平台并使该第一平台相对于第一导轨作往返运动的第一电机、驱动第二平台并使该第二平台相对于第二导轨作往返运动的第二电机、可安装工件并能够让工件探触到研磨抛光介质的工件挂板,所述第二导轨设置在第一平台上,所述工件挂板与第二平台紧固连接或者工件挂板与第二平台为一体结构制作,第一导轨与第二导轨位于同一平面。
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