[实用新型]单晶炉硅溶液液面位置检测装置及调整系统

摘要

本实用新型提供一种单晶炉硅溶液液面位置检测装置及对应的调整系统，其中该所述装置包括信号输入端、第一测量端、第二测量端以及控制系统，其中控制系统用于向信号输入端输入电压信号，并通过检测第一测量端和第二测量端的电压信号，获取第一测量端和第二测量端的电压信号检测状态；根据电压信号检测状态，生成用于指示硅溶液液面是否处于合理位置的检测结果。本实用新型利用硅溶液的导电性，在向信号输入端输入电压信号后，通过获取第一测量端和第二测量端的电压信号检测状态，自动并精确检测硅溶液液面位置，从而精确判断硅溶液液面是否处于合理位置，并进一步对坩埚位置进行相应调整，使硅溶液液面始终保持在合理位置。

主权项

一种单晶炉硅溶液液面位置检测装置，其特征在于，所述装置包括：信号输入端，其中所述信号输入端的下端面始终位于所述硅溶液液面的下方；第一测量端和第二测量端，其中所述第一测量端和所述第二测量端的下端面分别与所述硅溶液液面的合理位置的最高位置和最低位置齐平；控制系统，用于向所述信号输入端输入电压信号，并通过检测所述第一测量端和所述第二测量端的电压信号，获取所述第一测量端和所述第二测量端的电压信号检测状态；根据所述电压信号检测状态，生成用于指示所述硅溶液液面是否处于合理位置的检测结果。