[实用新型]一种具有螺旋导气槽的吹气装置有效
申请号: | 201620371115.6 | 申请日: | 2016-04-28 |
公开(公告)号: | CN205582897U | 公开(公告)日: | 2016-09-14 |
发明(设计)人: | 张航宇 | 申请(专利权)人: | 江苏长电科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 江阴市同盛专利事务所(普通合伙) 32210 | 代理人: | 周彩钧 |
地址: | 214434 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种具有螺旋导气槽的吹气装置,它包括吹气部件(1)和进气部件(2),所述吹气部件(1)沿水平方向设置有传气孔(1.1),所述吹气部件(1)沿竖直方向设置有吹气孔(1.2),所述传气孔(1.1)与吹气孔(1.2)相连通,所述吹气孔(1.2)上下两端分别为上输气口(1.3)和下输气口(1.4),所述吹气孔(1.2)内壁上设置有螺旋导气槽(1.5),所述进气部件(2)沿水平方向开设有进气孔(2.1),所述进气孔(2.1)与传气孔(1.1)相连通。本实用新型一种具有螺旋导气槽的吹气装置,它可以使保护气体顺着螺旋导气槽形成围绕吹气孔轴心的旋转气流,有效的解决因气流对冲而使保护气体产生的分散现象,有助于提升保护气体有效的达到框架作业表面,确保框架作业表面吹向铜线的保护气体流量浓度,从而降低铜线与烧结铜球氧化的风险。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 螺旋 导气槽 吹气 装置 | ||
【主权项】:
一种具有螺旋导气槽的吹气装置,其特征在于:它包括吹气部件(1)和进气部件(2),所述吹气部件(1)沿水平方向设置有传气孔(1.1),所述吹气部件(1)沿竖直方向设置有吹气孔(1.2),所述传气孔(1.1)与吹气孔(1.2)相连通,所述吹气孔(1.2)上下两端分别为上输气口(1.3)和下输气口(1.4),所述吹气孔(1.2)内壁上设置有螺旋导气槽(1.5),所述进气部件(2)沿水平方向开设有进气孔(2.1),所述进气孔(2.1)与传气孔(1.1)相连通。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造