[实用新型]一种光学元件激光预处理系统有效
| 申请号： | 201620345442.4 | 申请日： | 2016-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN205520069U | 公开（公告）日： | 2016-08-31 |
| 发明（设计）人： | 王凤蕊;蒋晓东;耿锋;刘红婕;黄进;李青芝;叶鑫;孙来喜;周晓燕 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | B23K26/00 | 分类号： | B23K26/00 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 吴开磊 |
| 地址： | 621000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型实施例提供了一种光学元件激光预处理系统，属于光学材料激光预处理领域。所述光学元件激光预处理系统包括光源装置、检偏器及反射装置，待处理样品设置在所述检偏器及所述反射装置之间的光传播路径中。所述光源装置输出的预处理激光光束入射到所述检偏器，透过所述检偏器的预处理激光光束入射至所述待处理样品的预设处理点，透过所述待处理样品的预处理激光光束经所述反射装置反射后再次入射至所述待处理样品的预设处理点，透过所述待处理样品的预处理激光光束经所述检偏器出射。本实用新型实施例提供的光学元件激光预处理系统有效地提高了光学元件的激光预处理效率，降低了光学元件激光预处理的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 元件 激光 预处理 系统 | ||
【主权项】：
一种光学元件激光预处理系统，其特征在于，包括光源装置、检偏器及反射装置，待处理样品设置在所述检偏器及所述反射装置之间的光传播路径中，所述光源装置输出的预处理激光光束入射到所述检偏器，透过所述检偏器的预处理激光光束入射至所述待处理样品的预设处理点，透过所述待处理样品的预处理激光光束经所述反射装置反射后再次入射至所述待处理样品的预设处理点，透过所述待处理样品的预处理激光光束经所述检偏器出射。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心，未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201620345442.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
